形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法专利登记公告

专利名称：形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法

摘要：本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上形成疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的自组装单分子膜模板的基底；(4)用石墨烯氧化物的水溶液覆盖所述图案化的自组装单分子膜模板，干燥，从而在基底的该至少一个表面上形成石墨烯氧化物图案。本发明还提供了一种形成石墨烯图案的方法。本发明的方法开拓了制备石墨烯氧化物图案的新的思路。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010616356.X

专利申请（专利权）人：国家纳米科学中心

专利发明（设计）人：孙树清;吴冲;承倩怡;韩宝航

主权项：一种形成石墨烯氧化物图案的方法，该方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上形成疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的自组装单分子膜模板的基底；(4)用石墨烯氧化物的水溶液覆盖所述图案化的自组装单分子膜模板，干燥，从而在基底的该至少一个表面上形成石墨烯氧化物图案。

专利地区：北京