一种共面式内置电容及其制造方法专利登记公告

专利名称：一种共面式内置电容及其制造方法

摘要：本发明适用于印制电路板领域，提供了一种共面式内置电容及其制造方法，所述电容包括：下层电容电极、上层电容电极；以及位于所述下层电容电极与所述上层电容电极之间的介电层，所述介电层由介电材料采用喷墨打印技术喷印而成。本发明实施例采用喷墨打印技术喷印介电层，降低了介电层的厚度，增强了介电层的均匀度，从而提高了共面式内置电容的单位电容密度并且减小了电容公差值；采用磁控溅射技术溅射导电种子层，增强了介电层与电容电极之间的结合力，防止介电层与电容电极之间相互扩散，从而提高了共面式内置电容的可靠性，满足未来电子器件向小型

专利类型：发明专利

专利号：CN201010617318.6

专利申请（专利权）人：深南电路有限公司

专利发明（设计）人：陈冲;刘德波;彭勤卫;孔令文

主权项：一种共面式内置电容，其特征在于，所述电容包括：下层电容电极、上层电容电极；以及位于所述下层电容电极与所述上层电容电极之间的介电层，所述介电层由介电材料喷印而成。

专利地区：广东