一种单晶炉真空管道粉尘的收集方法及收集装置专利登记公告

专利名称：一种单晶炉真空管道粉尘的收集方法及收集装置

摘要：一种单晶炉真空管道粉尘的收集方法及收集装置，方法是在炉体和真空泵之间的气体与挥发物粉尘通过的水平管道上升拐角处的垂直向下的方向设一管口，该管口上配一粉尘收集装置，收集装置包括：带有支架槽的管口，罐口带有支架槽的粉尘收集罐，连接管口和粉尘收集罐的带密封圈的支架，以及紧固用的卡箍。通过本发明，这些淤积的挥发物就会被固定的收集到罐中，气体在其上方通过，罐里的挥发物不会再被带走，以后再定期清洁、处理，就可以分离、消耗掉大部分拉晶时产生的挥发物粉尘，可以极大延长真空泵的使用寿命，装置经久耐用、组装简单、造价低廉、效

专利类型：发明专利

专利号：CN201010620823.6

专利申请（专利权）人：有研半导体材料股份有限公司;国泰半导体材料有限公司

专利发明（设计）人：邓德辉;侯艳柱;方峰;李海洋;郑沉;王学锋;叶松芳;刘红艳

主权项：一种单晶炉真空管道粉尘的收集方法，其特征在于，在炉体和真空泵之间的气体与挥发物粉尘通过的水平管道上升拐角处的垂直向下的方向设一管口，该管口上配一粉尘收集装置。

专利地区：北京