钽溅射靶专利登记公告

专利名称：钽溅射靶

摘要：本发明涉及一种钽溅射靶，其特征在于，含有1质量ppm以上且100质量ppm以下的钨作为必要成分，并且除钨和气体成分以外的纯度为99.998％以上。上述钽溅射靶，其特征在于，还含有0～100质量ppm(但是不包括0质量ppm)的钼和/或铌，钨、钼、铌的合计含量为1质量ppm以上且150质量ppm以下，并且除钨、钼、铌和气体成分以外的纯度为99.998％以上。本发明可以得到具有均匀微细的组织、等离子体稳定、膜的均匀性优良的高纯度钽溅射靶。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080025414.X

专利申请（专利权）人：吉坤日矿日石金属株式会社

专利发明（设计）人：福岛笃志;小田国博;仙田真一郎

主权项：一种钽溅射靶，其特征在于，含有1质量ppm以上且100质量ppm以下的钨作为必要成分，并且除钨和气体成分以外的纯度为99.998％以上。

专利地区：日本