溶液基前体专利登记公告

专利名称：溶液基前体

摘要：本发明涉及在膜的沉积方法，如原子层沉积、化学气相沉积和金属有机化学气相沉积中用作原料的溶液基前体。所述溶液基前体使得原本因在气化过程中具有分解和凝固倾向而不适合气相沉积方法的固体前体变得可以使用。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080031014.X

专利申请（专利权）人：琳德股份公司

专利发明（设计）人：C·马;金基灿;G·A·麦克法兰

主权项：具有以下化学式的前体：AxByM(m)其中M是金属，m是金属M的氧化态并且为0?7，A和B相同或不同，选自以下几类化学物质：a)环戊二烯基(Cp)及其衍生物(R1R2R3R4R5Cp，其中R1、R2、R3、R4和R5相同或不同，可以是氢或烷基[CnH2n+1，n＝1?6])；b)伯、仲或叔烷基(CnH2n+1，n＝1?12)；c)环烷基(CnR2n?1，n＝3?12，其中R是氢或烷基)；d)环烷基二烯(CnR2n?4，n＝4?12，其中R是氢或烷基)；e)苯及其衍生物(R1R2R3R4R5R6C6，其中R

专利地区：德国