磁性叠层设计专利登记公告
专利名称:磁性叠层设计
摘要:磁性叠层具有自由层、参考层以及两者之间的阻挡层,其中自由层具有可切换的磁化取向,参考层具有被钉扎的磁化取向。叠层包括与自由层电隔离且与参考层物理接触的环形反铁磁钉扎层。在一些实施例中,参考层比自由层大。
专利类型:发明专利
专利号:CN201080032381.1
专利申请(专利权)人:希捷科技有限公司
专利发明(设计)人:习海文;A·科伊尔;B·李;P·瑞安;I·金;P·安德森
主权项:一种磁性叠层,包括:铁磁自由层、铁磁参考层以及两者之间的阻挡层,所述自由层具有可切换的磁化取向,所述参考层具有被钉扎的磁化取向,并且所述自由层、所述参考层和所述阻挡层中的每一个都具有中心;以及具有中心的环形反铁磁钉扎层,所述钉扎层的中心与所述自由层、所述参考层和所述阻挡层中的每一个的中心大体对齐,所述钉扎层与所述自由层电隔离且与所述参考层物理接触。
专利地区:美国
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。