用于感测和跟踪表面上的辐射阻挡对象的系统和方法专利登记公告
专利名称:用于感测和跟踪表面上的辐射阻挡对象的系统和方法
摘要:公开了用于跟踪表面上的一个或更多个辐射阻挡对象的若干系统。邻近所述表面提供一对辐射传感器并且邻近所述表面提供多个辐射源。来自所述辐射源中的至少一些的辐射穿越所述表面到达所述辐射传感器中的每一个。所述表面上的一个或更多个辐射阻挡对象使来自一个或更多个辐射源的辐射衰减以防止到达每个传感器。基于一个或更多个经衰减的辐射源相对于每个辐射传感器的位置估计并且可以跟踪所述一个或更多个辐射阻挡对象的位置。
专利类型:发明专利
专利号:CN201080036262.3
专利申请(专利权)人:百安托国际有限公司
专利发明(设计)人:A·尤图库里;J·克拉克;艾伦·瑞金
主权项:一种用于感测辐射阻挡对象的位置的系统,所述系统包括:?框架;?安装到所述框架的第一辐射传感器;?安装到所述框架的第二辐射传感器,其中所述第一辐射传感器和所述第二辐射传感器间隔一距离;?安装到所述框架的多个辐射源,其中所述辐射源中的至少一些是所述辐射传感器中的每一个可见的;?耦接到所述辐射源和所述辐射传感器的控制器。
专利地区:加拿大
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。