环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法专利登记公告

专利名称：环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法

摘要：本发明提供一种下述式(1)所示的环状化合物。(式(1)中，L、R1、R′和m如说明书中所定义的那样)。式(1)所示的环状化合物对安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、且可赋予良好的抗蚀图案形状，因此是有用的辐射敏感组合物的成分。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080038687.8

专利申请（专利权）人：三菱瓦斯化学株式会社

专利发明（设计）人：越后雅敏;林宏美

主权项：一种下述式(1)所示的环状化合物，式(1)中，各L独立地为选自由单键，碳原子数1～20的直链状或支链状的亚烷基，碳原子数3～20的环亚烷基，碳原子数6～24的亚芳基，?O?，?OC(＝O)?，?OC(＝O)O?，?N(R5)?C(＝O)?、其中R5为氢或碳原子数1～10的烷基，?N(R5)?C(＝O)O?、其中R5与前述同义，?S?，?SO?，?SO2?和它们的任意组合组成的组中的二价有机基团；各R1独立地为碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～20的环烷基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数1～20的烷氧基

专利地区：日本