对经颅超声畸变的基于对侧阵列的校正专利登记公告

专利名称：对经颅超声畸变的基于对侧阵列的校正

摘要：通过捕获在如正借助二维接收换能器阵列(104、108)接收的超声中的畸变的横向二维特性来校正超声畸变(尤其在经颅成像或经颅治疗中的)。在一些实施例中，通过时间窗来施加透射超声(164)，并且例如一次从一个或多个真实点源或者虚拟点源(160)发射该透射超声，每个点源是单个换能器元件或者缀片或者一组元件或缀片的几何焦点。在一个方面中，缀片可以作为在近场中的小聚焦换能器。在一个版本中，对侧阵列(104、108)是由点源组成。在一些方面，通过自变量方式构造成与接收换能器的阵列结构对应的畸变图使畸变估计具体化，该超

专利类型：发明专利

专利号：CN201080038816.3

专利申请（专利权）人：皇家飞利浦电子股份有限公司

专利发明（设计）人：W·T·史;F·G·G·M·维尼翁;J·E·鲍尔斯;B·S·鲁滨逊;M·R·伯切;V·沙姆达莎尼

主权项：一种设备，包括：二维换能器阵列(104、108)，其被配置成接收已穿过不均匀介质(168)的透射超声(164)，所述设备被配置成在所接收的超声上执行畸变估计，使得所述估计的结果能够用于改进超声操作。

专利地区：荷兰