环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法专利登记公告

专利名称：环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法

摘要：下述式(1)所示的环状化合物。(式中，L、R1、R′及m如说明书中所定义的)。式(1)所示的环状化合物由于相对于安全溶剂的溶解性高，灵敏度高，并且可赋予良好的抗蚀图案形状，所以作为辐射敏感组合物的成分是有用的。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080040034.3

专利申请（专利权）人：三菱瓦斯化学株式会社

专利发明（设计）人：林宏美;越后雅敏;小黑大

主权项：一种环状化合物，其以下述式(1)表示，式(1)中，各L独立地为选自由单键、碳原子数1～20的直链状或支链状的亚烷基、碳原子数3～20的环亚烷基、碳原子数6～24的亚芳基、?O?、?OC(＝O)?、?OC(＝O)O?、?N(R5)?C(＝O)?、?N(R5)?C(＝O)O?、?S?、?SO?、?SO2?及它们的任意的组合组成的组中的二价的有机基团，其中R5为氢或碳原子数1～10的烷基，各R1独立地为碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～20的环烷基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数1～20的烷氧基、氰基、硝基

专利地区：日本