超过800万条软件/作品著作权公告信息!

提供基于中国版权保护中心以及各省市版权局著作权登记公告信息查询

含有离去取代基的化合物、有机半导体材料、含有该材料的有机半导体膜、含有该膜的有机电子器件、制备膜状产品的方法、π-电子共轭的化合物和制备该π-电子共轭的化合物的方法专利登记公告


专利名称:含有离去取代基的化合物、有机半导体材料、含有该材料的有机半导体膜、含有该膜的有机电子器件、制备膜状产品的方法、π-电子共轭的化合物和制备该π-电子共轭的化合物的方法

摘要:含有离去取代基的化合物,其包含以下通式(I)表示的部分结构:其中X1和X2对或Y1和Y2对各自表示氢原子;另一对各自表示选自以下的基团:卤素原子,和取代或未取代的具有一个或多个碳原子的酰氧基;由所述X1和X2对或所述Y1和Y2对表示的所述酰氧基对可相同或不同,或可键合在一起形成环;R1~R4各自表示氢原子或取代基;且Q1和Q2各自表示氢原子、卤素原子或单价有机基团,并且可键合在一起形成环。

专利类型:发明专利

专利号:CN201080040101.1

专利申请(专利权)人:株式会社理光

专利发明(设计)人:后藤大辅;山本谕;匂坂俊也;加藤拓司;冈田崇;篠田雅人;松本真二;毛利匡贵;油谷圭一郎

主权项:含有离去取代基的化合物,其包含:以下通式(I)表示的部分结构:其中X1和X2对或Y1和Y2对各自表示氢原子;另一对各自表示选自卤素原子、和取代或未取代的具有一个或多个碳原子的酰氧基的基团;由所述X1和X2对或所述Y1和Y2对表示的酰氧基对可相同或不同,或可键合在一起形成环;R1~R4各自表示氢原子或取代基;和Q1和Q2各自表示氢原子、卤素原子或单价有机基团,并且可键合在一起形成环。FDA0000141869750000011.tif

专利地区:日本