用于影响和/或探测磁性颗粒的设备和方法专利登记公告

专利名称：用于影响和/或探测磁性颗粒的设备和方法

摘要：本发明涉及用于影响和/或探测视场中的磁性颗粒的MPI(磁性颗粒成像)设备和方法。不是沿单个时间消耗的高密度轨迹移动FFP(无场点)，提出使用具有前进相位的多个低密度轨迹，其中，每个所述低密度轨迹具有不同地位于视场内的闭合曲线的形式。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080040232.X

专利申请（专利权）人：皇家飞利浦电子股份有限公司

专利发明（设计）人：S·彼德雷尔;T·f·萨特尔;T·克内普;T·M·布祖格

主权项：一种用于影响和/或探测视场(28)中的磁性颗粒的设备(100)，所述设备包括：?选择构件，包括用于生成磁选择场(50)的选择场信号生成器单元(110)和选择场元件(116)，所述磁选择场(50)具有其磁场强度的空间图案，使得在所述视场(28)中形成具有低磁场强度的第一子区(52)和具有较高磁场强度的第二子区(54)；?驱动构件，包括驱动场信号生成器单元(130)和驱动场线圈(136a，136b，136c)，所述驱动场信号生成器单元(130)和所述驱动场线圈(136a，136b，136c)用于借助于磁驱动场

专利地区：荷兰