用于RNA及其衍生物的合成的新型保护基专利登记公告

专利名称：用于RNA及其衍生物的合成的新型保护基

摘要：本发明涉及下述通式(I)所示的保护基，该保护基在核酸合成循环的反应条件下稳定，空间位阻小，并且在使用氟化物离子作为碱的温和条件下能够离去。在通式(I)中，带*的氧原子表示核糖核苷、核糖核苷酸、或者它们的衍生物的2′-位羟基的氧原子；R1和R2均为氢原子，或者表示卤原子、C1-6烷基、或者C1-6卤代烷基；R3和R4表示氢原子、卤原子、C1-6烷基、或者C1-6卤代烷基；R5和R6表示卤原子、C1-6卤代烷基、氰基、或者硝基等。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080041457.7

专利申请（专利权）人：株式会社启拉坚

专利发明（设计）人：和田猛;清水护

主权项：一种保护基，其为核糖核苷、核糖核苷酸、或者它们的衍生物的2′?位羟基的保护基，该保护基如下述通式(I)所示：式中，带*的氧原子表示核糖核苷、核糖核苷酸、或者它们的衍生物的2′?位羟基的氧原子；R1和R2均为氢原子，或者各自独立地表示卤原子、C1?6烷基、或者C1?6卤代烷基；R3和R4各自独立地表示氢原子、卤原子、C1?6烷基、或者C1?6卤代烷基；R5和R6各自独立地表示卤原子、C1?6卤代烷基、氰基、或者硝基，或者R5和R6相互键合，表示具有或不具有氟原子取代基的9?芴基。FDA00001442404

专利地区：日本