组合式约束环装置及其方法专利登记公告

专利名称：组合式约束环装置及其方法

摘要：用于在等离子体处理腔中执行压强控制的装置，包括上电极、下电极和组合式约束环装置，其中该上电极、下电极和组合式约束环装置被配置为至少用于围绕约束腔区域以促进等离子体形成与该区域中的等离子体约束。该装置进一步包括被配置用于沿垂直方向移动组合式约束环装置的至少一个活塞，以调节第一气体传导路径和第二气体传导路径中的至少一个以执行压强控制，其中第一气体传导路径形成在上电极与组合式约束环装置之间，且第二气体传导路径形成在下电极和单个组合式环装置之间。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080042131.6

专利申请（专利权）人：朗姆研究公司

专利发明（设计）人：拉金德尔·德辛德萨;罗加罗马尼昂·卡利阿纳尔曼;萨斯安阿拉延安·玛尼;瓜塔姆·巴特查里亚

主权项：一种在衬底处理期间在等离子体处理系统的处理腔中执行压强控制的装置，所述装置包括：上电极；下电极；组合式约束环装置，其中所述上电极、所述下电极和所述组合式约束环装置被配置为至少用于围绕约束腔区域，其中所述约束腔区域能够维持用于在衬底处理期间刻蚀所述衬底的等离子体，并且所述组合式约束环装置被配置用于约束所述约束腔区域内的所述等离子体；以及至少一个活塞，其被配置用于沿垂直方向移动所述组合式约束环装置以调节第一气体传导路径和第二气体传导路径中的至少一个从而执行所述压强控制，其中所述第一气体传导路径形成在所述上电极

专利地区：美国