用于制备光控取向膜的紫外高透过双层线栅偏振片及其制备方法专利登记公告

专利名称：用于制备光控取向膜的紫外高透过双层线栅偏振片及其制备方法

摘要：本发明提供一种用于光控取向膜的紫外高透过双层线栅偏振片及其制备方法。更具体地，本发明提供一种紫外高透过双层线栅偏振片，包括：基底；设置在所述基底上的抗反射层；设置在所述抗反射层上的图形化光刻胶层；以及设置在所述光刻胶层和所述抗反射层上的金属薄膜。另外，本发明提供一种紫外高透过双层线栅偏振片的制备方法，该方法包括以下步骤：在基底上形成抗反射层；通过在所述抗反射层上涂覆光刻胶形成光刻胶层；根据由激光干涉光所形成的图形对所述光刻胶层进行选择性曝光并对曝光后的光刻胶层进行显影来形成线栅图形；以及在所述形成有线栅图

专利类型：发明专利

专利号：CN201080042347.2

专利申请（专利权）人：LG化学株式会社

专利发明（设计）人：金在镇;金信英;辛富建;金台洙

主权项：一种用于光控取向膜的紫外高透过率双层线栅偏振片，包括：基底；设置在所述基底上的抗反射层；设置在所述抗反射层上的图形化光刻胶层；以及设置在所述光刻胶层和所述抗反射层上的金属薄膜。

专利地区：韩国