用于在离子源内防止回流的系统专利登记公告

专利名称：用于在离子源内防止回流的系统

摘要：在此介绍了一种作为离子源安排的一部分用于防止回流的系统。这样一种系统在一个源(例如一个API离子源)内结合了一种新颖的连续导流板。在喷雾方向上，限定了内部容积的第一部分的截面积最初以收敛状的方式减小并且此后以发散状的方式朝向该离子源壳体的出口开口增大。这样一种导流板已被设计为一个离子源壳体的整体部件，以提供穿过质谱仪入口的取样孔口的一种最佳的单向流动。因此，本发明的新颖的设计防止了再循环并且因此将携带污染、化学噪音、以及源湍流最小化，并且作为一个附加的益处，使得使用者在维护过程中能够很容易地清洁这样一个系

专利类型：发明专利

专利号：CN201080042945.X

专利申请（专利权）人：萨默费尼根有限公司

专利发明（设计）人：E·R·武泰斯;C·马伦;M·司普兰道尔;R·P·阿瑟顿

主权项：一种用于防止在离子源内回流的系统，包括：一个壳体腔室；一个被配置在所述壳体腔室内的连续导流板，其中所述连续导流板包括在一个最小截面积处相连接的一个第一收敛容积以及一个第二发散容积；一个喷雾探头，该喷雾探头被布置在所述连续导流板内并且被配置为在所述连续导流板内沿着一条所希望的轴线来提供一个喷雾柱；一个或多个气体入口，这些气体入口被配置为提供一种惰性气体以便与所述喷雾柱结合并且填充所述第一收敛容积；一个排气排放口，该排气排放口可操作地连接到所述连续导流板的所述第二发散容积上；以及一种装置，用于在所述第一收敛容

专利地区：美国