二胺化合物、聚酰胺酸、聚酰亚胺及液晶取向处理剂专利登记公告

专利名称：二胺化合物、聚酰胺酸、聚酰亚胺及液晶取向处理剂

摘要：本发明提供可用作构成可获得电压保持率高且长时间暴露在高温下后因直流电压而积聚的残留电荷的缓解也快的液晶取向膜的液晶取向处理剂的聚酰胺酸和/或聚酰亚胺的原料的新型二胺化合物。以式[1]表示的新型二胺化合物和包含使用该二胺化合物得到的聚酰胺酸及/或聚酰亚胺的液晶取向处理剂，[化1]式中，X1表示-CO-或-CONH-，X2表示碳数1～5的亚烷基或含氮原子的非芳香族杂环，X3表示可被碳数1～5的烷基取代的含2个氮原子的五元环或六元环的芳香族杂环。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080043007.1

专利申请（专利权）人：日产化学工业株式会社

专利发明（设计）人：三木德俊;南悟志;片山雅章

主权项：下式[1]的二胺化合物；[化1]式中，X1表示?CO?或?CONH?，X2表示碳数1～5的亚烷基或含氮原子的非芳香族杂环，X3表示可被碳数1～5的烷基取代的含2个氮原子的五元环或六元环的芳香族杂环。FPA00001530368000011.tif

专利地区：日本