光学系统中的、尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置专利登记公告

专利名称：光学系统中的、尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置

摘要：本发明涉及一种光学系统中的光学布置，尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置，该光学布置包括：至少一个发热子系统(110-810)，在光学系统操作期间发射热；第一热屏蔽(120-820)，设置成至少部分吸收发热子系统(110-810)所发射的热；第一冷却装置(130-830)，与第一热屏蔽机械接触，并被设计成将来自第一热屏蔽的热散掉；以及第二热屏蔽(140-840)，至少部分吸收第一热屏蔽(120-820)所发射的热，同样地，第二热屏蔽(140-840)与将来自第二热屏蔽(140-840)的热散掉的冷却装置机

专利类型：发明专利

专利号：CN201080043766.8

专利申请（专利权）人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

专利发明（设计）人：T.劳弗;A.索尔霍弗

主权项：一种光学系统中的光学布置，尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置，包括：至少一发热子系统(110?810)，在所述光学系统操作期间发射热；第一热屏蔽(120?820)，设置成至少部分吸收所述发热子系统(110?810)所发射的热；第一冷却装置(130?830)，与所述第一热屏蔽机械接触，并被设计为将来自所述第一热屏蔽的热散掉；以及第二热屏蔽(140?840)，至少部分吸收所述第一热屏蔽(120?820)所发射的热，所述第二热屏蔽(140?840)同样地与将来自所述第二热屏蔽(140?840)的热散掉的冷却装

专利地区：德国