产生处理基底的光束的光学系统专利登记公告

专利名称：产生处理基底的光束的光学系统

摘要：本发明涉及一种光学系统，用于产生处理布置在基底平面(14)中的基底的光束，其中所述光束在第一维度(X)上具有束长度(L)并且在第二维度(Y)上具有束宽度(B)，所述第一维度(X)垂直于所述光束的传播方向(Z)，所述第二维度(Y)垂直于所述第一维度(X)并且垂直于所述光束的传播方向(Z)，所述光学系统包括至少一个混光光学布置(18)，所述混光光学布置(18)在所述第一和第二维度中的至少一个上将所述光束分成多个光路(24a-c)，所述多个光路(24a-c)以彼此叠加的方式入射在所述基底平面(14)中。至少一个

专利类型：发明专利

专利号：CN201080044075.X

专利申请（专利权）人：卡尔蔡司激光器材有限责任公司

专利发明（设计）人：H.明兹;W.默克尔;D.菲奥尔卡;J.万格勒

主权项：一种光学系统，用于产生处理布置在基底平面(14)中的基底的光束，其中所述光束在第一维度(X)上具有束长度(L)并且在第二维度(Y)上具有束宽度(B)，所述第一维度(X)垂直于所述光束的传播方向(Z)，所述第二维度(Y)垂直于所述第一维度(X)并且垂直于所述光束的传播方向(Z)，所述光学系统包括至少一个混光光学布置(18；18’；18”)，所述混光光学布置(18；18’；18”)在所述第一和第二维度中的至少一个上将所述光束分成多个光路(24a?c)，所述多个光路(24a?c)以彼此叠加的方式入射在所述基底平

专利地区：德国