铜离子改性的氧化钛及其制造方法和光催化剂专利登记公告

专利名称：铜离子改性的氧化钛及其制造方法和光催化剂

摘要：本发明涉及铜离子改性的氧化钛，其包括表面被铜离子改性的氧化钛，并含有板钛矿型晶体；制造铜离子改性的氧化钛的方法，包括使能够生成氧化钛的钛化合物在反应溶液中水解的水解步骤；和将水解后获得的溶液与含有铜离子的水溶液混合从而用铜离子将氧化钛的表面改性的表面改性步骤；和以70质量％或更大的量含有所述铜离子改性的氧化钛的光催化剂。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080044457.2

专利申请（专利权）人：国立大学法人东京大学;昭和电工株式会社

专利发明（设计）人：桥本和仁;入江宽;细木康弘;黑田靖

主权项：铜离子改性的氧化钛，其包含表面被铜离子改性的氧化钛，并含有板钛矿型晶体。

专利地区：日本