用于AVA风险评估的基于迁移的照射确定专利登记公告

专利名称：用于AVA风险评估的基于迁移的照射确定

摘要：根据本发明的优选方面，在此提供了用于将零偏移或堆叠波方程式照射分析扩展到角度道集域内的系统和方法，其中，其变为用于评估复杂覆盖层对于AVA响应的影响的有效工具。用于进行该操作的优选方法包含：首先建立角度道集，该角度道集具有良好的AVA响应(即，作为角度的函数的恒定幅度)。该道集因此优选地被用作向反迁移处理中供应的反射率图，反迁移处理产生建模的数据，通过构造，该建模的数据承载有完全平坦的反射特性。这样的数据集的重新迁移因此导致如下的道集，在该道集上，任何幅度改变更可能仅仅成为照射效果的测量。在道集上的结果产

专利类型：发明专利

专利号：CN201080044814.5

专利申请（专利权）人：BP北美公司

专利发明（设计）人：乌韦·阿尔贝廷;奥勒·约兰·阿斯基姆;玛丽安娜·盖拉西姆

主权项：一种用于在包含结构和地层特征的预定体积的土体内的碳氢化合物的探查的方法，所述结构和地层特征有益于所述碳氢化合物的产生、迁移、累积或存在，所述方法包括步骤：a.访问对所述预定体积的土体的至少一部分进行成像的地震勘测的数字表示；b.建立用于表示所述预定体积的土体的至少一部分的地下模型；c.至少使用所述地下模型来建立校准地震数据集，所述校准地震数据集是从地震建模程序形成的，所述地震建模程序至少包括照射建模方面，并且不包括AVA建模方面；d.使用所述校准地震数据集的至少一部分来规范化所述地震勘测的所述数字表示的至

专利地区：美国