放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法专利登记公告

专利名称：放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法

摘要：本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080045526.1

专利申请（专利权）人：JSR株式会社

专利发明（设计）人：切通优子;成冈岳彦;西村幸生;浅野裕介;川上峰规;中岛浩光

主权项：一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有：[A]具有选自分别以下式(1?1)和(1?2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂；式(1?1)和(1?2)中，R1各自独立地为氢原子、低级烷基或者卤代低级烷基；式(1?1)中，Y是(2+d)价的饱和烃基；R2和R3各自独立地为烷基；其中，R2和R3可以相互键合并与Y一起形成脂环式结构；R4为烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基；R3或

专利地区：日本