用于CMP垫的聚氨酯组合物及其制造方法专利登记公告

专利名称：用于CMP垫的聚氨酯组合物及其制造方法

摘要：基于某些聚醚和聚酯预聚物反应混合物的聚氨酯组合物，其中该组合物用于制造化学机械抛光/平面化(CMP)垫。该CMP垫具有低回弹并可消散不规则能量以及使抛光稳定以实现衬底的改进的均匀性和较低碟形现象。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080045647.6

专利申请（专利权）人：普莱克斯S.T.技术有限公司

专利发明（设计）人：Y·张;D·黄;L·孙

主权项：衍生自聚醚/聚酯基预聚物反应混合物的聚氨酯化学机械抛光垫，其包含：(a)占预聚物混合物总重量的大约60?80重量％的量的甲苯二异氰酸酯(TDI)?封端的聚四亚甲基醚二醇基预聚物；(b)大约40?20重量％的量的甲苯二异氰酸酯(TDI)?封端的己二酸乙二醇酯聚酯预聚物，其中该重量％基于预聚物混合物总重量；(c)分别有效量的表面活性剂和固化剂，和(d)引入该反应混合物中以形成所述抛光垫的发泡剂，其中所得抛光垫具有大约0.6至大约0.95g/cc的密度。

专利地区：美国