用于确定衬底上的对象的近似结构的方法、检验设备以及衬底专利登记公告

专利名称：用于确定衬底上的对象的近似结构的方法、检验设备以及衬底

摘要：一种通过重构确定衬底上的对象的近似结构的系统和方法。其可以被应用于例如显微结构的基于模型的量测中，例如以便估计光刻设备的重叠性能或临界尺寸(CD)。散射仪被用以确定对象的近似结构，例如衬底上的叠层上的光栅。晶片衬底具有上层和下层。衬底包括第一散射测量目标区域，包括叠层对象上的光栅。叠层上的光栅由上层和下层构成。上层被图案化具有周期性光栅。衬底还具有相邻的第二散射测量目标区域，其中没有上层。第二区域仅具有未图案化的下层。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080045674.3

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：H·克拉莫;H·麦根斯

主权项：一种确定衬底上的对象的近似结构的方法，所述衬底包括上层和下层，所述衬底包括第一区域，所述第一区域包括所述对象，所述对象包括上层的图案化部分和下层的一部分，并且所述衬底还包括没有上层的第二区域，所述第二区域包括下层的一部分，所述方法包括步骤：(a)检测通过辐射束照射第一区域引起的衍射信号；(b)检测通过辐射束照射第二区域引起的电磁散射属性；和(c)基于所检测的衍射信号和所检测的电磁散射属性来确定对象的近似结构。

专利地区：荷兰