化学机械抛光修整器专利登记公告

专利名称：化学机械抛光修整器

摘要：一种化学机械抛光(CMP)修整器包括一个具有主表面的陶瓷基底、以及一个覆盖该主表面的磨料涂层。这个主表面可以包括被安排为呈一种弯曲的图案的多个微小凸起。可替代地，这些微小凸起可以被安排为呈一种不规则的图案。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080045716.3

专利申请（专利权）人：圣戈班磨料磨具有限公司;法国圣戈班磨料磨具公司

专利发明（设计）人：J·吴;R·W·J·霍尔;E·M·舒勒;S·拉曼斯

主权项：一种化学机械抛光(CMP)修整器，包括：一个陶瓷基底，该陶瓷基底具有一个主表面，该主表面包括被安排为呈一种弯曲的图案或者一种不规则的图案的多个微小凸起；以及一个覆盖该主表面的磨料涂层。

专利地区：美国

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