制造中孔抗静电薄膜涂布的基材的方法，及其在眼科光学中的用途专利登记公告

专利名称：制造中孔抗静电薄膜涂布的基材的方法，及其在眼科光学中的用途

摘要：本发明涉及一种包含基材的制品，所述基材具有中孔抗静电涂层涂布的主表面，所述涂层具有小于或等于1.5的折射率，并且还涉及由疏水铵基团官能化的二氧化硅基体。在某些条件下，该中孔抗静电涂层为单层抗反射涂层，或为单层抗反射涂层的部分。本发明还涉及制造所述制品的方法，以及具有由铵基团官能化的二氧化硅基体的中孔涂层作为抗静电涂层的用途。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080045927.7

专利申请（专利权）人：埃西勒国际通用光学公司

专利发明（设计）人：M·卡代;M·弗伊雷德

主权项：一种制造中孔抗静电薄膜涂布的基材的方法，包括：a)制备中孔抗静电薄膜的前体溶胶，所述前体溶胶包含：?至少一种无机前体剂A，其选自如下通式化合物：Si(X)4(I)其中该X基团相同或不同，为可水解基团，优选选自烷氧基、酰氧基和卤素基团，优选烷氧基，或这样的前体剂的水解产物；?至少一种前体剂B，其选自有机硅烷，所述有机硅烷包含：α)带有至少两个可水解基团的硅原子；和β)至少一个铵基团；或这样的前体剂的水解产物；?至少一种有机溶剂，至少一种成孔剂，水和任选地X基团的水解催化剂；该B化合物/A化合物摩尔比为0.1

专利地区：法国