电磁波反射构件的制造方法专利登记公告

专利名称：电磁波反射构件的制造方法

摘要：本发明的主要目的在于，提供一种可以在右旋圆偏振光选择性反射层上直接设置具有良好的反射性的左旋圆偏振光选择性反射层的电磁波反射构件的制造方法。本发明中，为解决上述问题，提供如下的电磁波反射构件的制造方法，其特征在于，包括：通过在透明基板上涂布右旋转性涂布液而形成右旋转性涂膜，通过对上述右旋转性涂膜进行能量照射，而形成实质上完全固化了的右旋圆偏振光选择性反射层的工序；通过在上述右旋圆偏振光选择性反射层上涂布左旋转性涂布液而形成左旋转性涂膜，通过对上述左旋转性涂膜进行能量照射，而形成左旋圆偏振光选择性反射层的工

专利类型：发明专利

专利号：CN201080046224.6

专利申请（专利权）人：大日本印刷株式会社

专利发明（设计）人：浜田聪;竹重彰词;鹿岛启二

主权项：一种电磁波反射构件的制造方法，其特征在于，包括：右旋圆偏振光选择性反射层形成工序，通过在透明基板上，涂布含有在分子内具有聚合性官能团并可以形成胆甾醇结构的第一棒状化合物、以及赋予右旋转性的手性剂的右旋转性涂布液，而形成右旋转性涂膜，通过对所述右旋转性涂膜进行能量照射，而进行所述第一棒状化合物的聚合，形成实质上完全固化了的右旋圆偏振光选择性反射层；左旋圆偏振光选择性反射层形成工序，通过在所述右旋圆偏振光选择性反射层上，涂布含有在分子内具有聚合性官能团并可以形成胆甾醇结构的第二棒状化合物、以及赋予左旋转性的手

专利地区：日本