聚焦装置、聚焦方法、聚焦程序和显微镜专利登记公告

专利名称：聚焦装置、聚焦方法、聚焦程序和显微镜

摘要：一种聚焦装置，从开口43A和43B通过分别设置在开口43A和43B后的分离透镜44A和44B在成像装置45的成像面上形成相衬图像，其中，开口43A和43B具有使分离透镜44A和44B的景深大于物镜15的景深的尺寸。然后，聚焦装置40获得像素单元中作为相衬图像之一的标准图像和作为相衬图像的另一图像的参考图像之间的距离并基于每个像素的距离判定应调节的聚焦的位置及其数量。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080046730.5

专利申请（专利权）人：索尼公司

专利发明（设计）人：山本隆司;木原信宏

主权项：一种聚焦装置，包括：成像装置，配置有作为成像面的被预定为与物镜的主图像形成面分离的预定图像形成面，所述预定图像形成面上形成有在主图像形成面上形成的图像的相衬图像；获取装置，用于从所述成像装置中获取像素单元中所述相衬图像的一个图像与另一图像之间的距离；以及判定装置，用于基于每个像素的所述距离判定应被调节聚焦的位置和所述位置的数量。

专利地区：日本