在选定入射平面内具有角度限制的浸入型反射偏振片专利登记公告

专利名称：在选定入射平面内具有角度限制的浸入型反射偏振片

摘要：本发明提供了一种膜构造(330)，所述膜构造包括可浸入超低折射率介质(332、334)中的宽谱带反射偏振膜(312)。所述反射偏振膜通过透光轴和阻光轴来表征，并且其对于所述透光状态偏振的白光的反射率随入射角的增大而增加，从而选择性地在一个入射平面中得到压缩或狭窄视锥。在一些实施例中，所述压缩视锥相关的所述入射平面与所述透光轴平行。在其他实施例中，它与所述阻光轴平行。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080048094.X

专利申请（专利权）人：3M创新有限公司

专利发明（设计）人：迈克尔·F·韦伯;刘涛;蒂莫西·J·内维特

主权项：一种膜构造，其包括：被配置为随包括可见波长的延伸波长区域的角度和偏振的变化而选择性地透射和反射光的多个微层，所述微层限定第一偏振的垂直入射可见光的透光轴以及第二偏振的垂直入射可见光的阻光轴，所述微层还具有以下特性：(a)以倾斜角度入射到第一入射平面内的所述第一偏振的第一光的反射率增加，从而在压缩的视锥内透射所述第一光，以及(b)入射到第二入射平面内的所述第一偏振的第二光在倾斜角度下的反射率不显著增加，从而在宽视锥内透射所述第二光；以及具有超低折射率的光厚低折射率层，所述光厚低折射率层连接至所述微层，以限制

专利地区：美国