尤其用于气体放电光源的电极系统专利登记公告

专利名称：尤其用于气体放电光源的电极系统

摘要：本发明涉及电极系统，特别地涉及用于生成EUV辐射和/或软X射线的气体放电装置的电极系统。该电极系统包括由电极材料形成的至少两个电极(12)，该电极材料包含Mo或W或者Mo或W的合金以作为主要组分。该电极材料具有细晶粒结构，且细晶粒结构具有≤500nm的平均尺寸的细晶粒。利用所提出的电极系统，实现了电极的高的热机械耐受性和高的热化学耐受性。因此，该电极系统可用于使用液态Sn且高温运行的已知EUV光源中。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080048670.0

专利申请（专利权）人：皇家飞利浦电子股份有限公司;爱克斯特里姆科技有限责任公司

专利发明（设计）人：C.梅茨马歇尔;J.容克斯;R.T.A.阿佩茨

主权项：一种电极系统，其包括由电极材料形成的至少两个电极?(1,?2)，该电极材料包含Mo或W或者Mo或W的合金以作为主要组分，其中所述电极材料具有细晶粒结构，该细晶粒结构具有≤500?nm的平均尺寸的细晶粒。

专利地区：荷兰