超过800万条软件/作品著作权公告信息!

提供基于中国版权保护中心以及各省市版权局著作权登记公告信息查询

光催化剂构造体以及除臭装置专利登记公告


专利名称:光催化剂构造体以及除臭装置

摘要:提供一种能够高效地产生光催化剂反应的光催化剂构造体。此外,还提供采用了这样的光催化剂构造体的新型的除臭装置。净化板(光催化剂构造体)(10)具备:基板(11),其在表面形成了凹凸构造(11a);和光催化剂膜(13),其被配置在基板(11)的凹凸构造(11a)侧并且反映了凹凸构造(11a)的形状。凹凸构造(11a)以比由光催化剂膜(13)引起光催化剂反应的光的波长小的间距形成。通过从基板(11)侧入射规定波长的光,从而停留于吸附膜(14)的被净化物质通过光催化剂膜(13)所产生的光催化剂反应而被净化。通过将

专利类型:发明专利

专利号:CN201080048830.1

专利申请(专利权)人:三洋电机株式会社

专利发明(设计)人:中谷守雄

主权项:一种光催化剂构造体,其特征在于,具备:基板,其在表面形成了凹凸构造;和光催化剂膜,其被配置在上述基板的上述凹凸构造侧并且反映了上述凹凸构造的形状,上述凹凸构造以比由上述光催化剂膜引起光催化剂反应的光的波长小的间距形成。

专利地区:日本