正变构调节剂(PAM)专利登记公告

专利名称：正变构调节剂(PAM)

摘要：本发明涉及式(I)的苯基乙炔基衍生物，其中R1是氢、卤素、低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是氢、低级烷基、＝O、低级烷氧基、苯基、羟基或被羟基取代的低级烷基；X是N、CF或CH；L是-NR3-、-NHC(R3)2-、-O-、-OC(R3)2-、-CR4R4’-；R3是氢或低级烷基；R4/R4’彼此独立地是氢或低级烷基；cyc是环烷基或杂环烷基，或是选自7-氧杂-二环[2.2.1]庚-1-基或二环[2.2.1]庚-1-基的非芳族双环；n是1，2或3；或它们的药用酸加成盐，外消旋混合物，或其对应的对映体和

专利类型：发明专利

专利号：CN201080048857.0

专利申请（专利权）人：霍夫曼-拉罗奇有限公司

专利发明（设计）人：卢克·格林;沃尔夫冈·古帕;乔治·耶施克;西内斯·若利顿;洛塔尔·林德曼;安东尼奥·里奇;丹尼尔·吕厄;海因茨·施塔德勒;埃里克·维埃拉

主权项：式I的苯基乙炔基衍生物，其中R1是氢、卤素、低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是氢、低级烷基、＝O、低级烷氧基、苯基、羟基或被羟基取代的低级烷基；X是N、CF或CH；L是?NR3?、?NHC(R3)2?、?O?、?OC(R3)2?、?CR4R4’?；R3是氢或低级烷基；R4/R4’彼此独立地是氢或低级烷基；cyc是环烷基或杂环烷基，或是选自7?氧杂?二环[2.2.1]庚?1?基或二环[2.2.1]庚?1?基的非芳族双环；n是1、2或3；或它们的药用酸加成盐，外消旋混合物，或其对应的对映体和/或光学异构体

专利地区：瑞士