透明结构专利登记公告

专利名称：透明结构

摘要：本发明提供了透明结构、电子器件以及用于制造该结构/器件的方法。一种透明结构可以包括：具有多个微米级结构或纳米级结构的透明衬底；至少一种物质，被配置为阻挡近红外或红外辐射，并部分覆盖所述衬底以及所述多个微米级结构或纳米级结构的至少可观部分；以及至少一种光催化剂，被配置为至少部分覆盖所述透明结构的最外表面。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080049194.4

专利申请（专利权）人：高丽大学校产学协力团

专利发明（设计）人：李光烈

主权项：一种透明结构，包括：具有多个微米级结构或纳米级结构的透明衬底，所述多个微米级结构或纳米级结构被配置为提供衬底上的粗糙表面；至少一种物质，被配置为阻挡近红外或红外辐射，并部分覆盖所述衬底以及所述多个微米级结构或纳米级结构的至少可观部分；以及至少一种光催化剂，被配置为至少部分覆盖所述透明结构的最外表面。

专利地区：韩国