波纹状填装结构栅构和由若干填装结构栅构装配的结构化填装结构专利登记公告

专利名称：波纹状填装结构栅构和由若干填装结构栅构装配的结构化填装结构

摘要：本发明涉及一种用于气液接触设备的波纹状填装结构栅构，具有连续设置的波谷和波峰，用于由若干填装结构栅构装配而成的结构化填装结构，并涉及一种由所述填装结构栅构装配的填装结构。本发明的目的是提供一种填装结构栅构以及一种填装结构，其具有大的质量传递面积同时具有低的压降，并呈现高的机械强度。根据本发明，这通过位于所述填装结构栅构的波谷区域中的元件实现，所述元件延伸进入到所述波谷中。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080049892.4

专利申请（专利权）人：RVT处理设备股份有限公司

专利发明（设计）人：阿曼·沃尔夫;马科斯·莱纳;维尔纳·盖佩尔

主权项：一种用于气液接触设备的波纹状填装结构栅构（1），其具有连续设置的波谷（6）和波峰（5），用于由若干填装结构栅构（1）装配而成的结构化填装结构，其中在所述填装结构栅构（1）的所述波谷（6）区域中，设置有延伸到所述波谷（6）中的元件（10，11，12，14），其特征在于，所述波峰（5）和所述波谷（6）由波状带（2）形成，其中所述波状带（2）彼此隔开一段距离设置，并被连接到具有横向于所述带（2）延伸的交叉撑（3）的开放结构。

专利地区：德国