用于图案化的磁盘媒体应用的等离子体离子注入工艺专利登记公告

专利名称：用于图案化的磁盘媒体应用的等离子体离子注入工艺

摘要：提供在基板上的磁敏感表面上形成包括磁畴及非磁性磁畴的图案的工艺与设备。在一个实施例中，一种在设置于基板上的磁敏感材料上形成多个磁畴的图案的方法包括：暴露磁敏感层的第一部分至由气体混合物形成的等离子体历时一段足够的时间，以将经由遮蔽层暴露的所述磁敏感层的所述第一部分的磁性从第一状态修改成第二状态，其中所述气体混合物至少包括含卤素气体及含氢气体。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080049969.8

专利申请（专利权）人：应用材料公司

专利发明（设计）人：马丁·A·希尔金;马修·D·斯科特奈伊-卡斯尔;罗曼·古科;史蒂文·维哈维伯克

主权项：一种在设置于基板上的磁敏感材料上形成磁畴的图案的方法，包含：暴露磁敏感层的第一部分至由气体混合物形成的等离子体历时一段足够长的时间，以将所述磁敏感层的经由遮蔽层暴露的所述第一部分的磁性从第一状态修改成第二状态，其中所述气体混合物至少包括含卤素气体和含氢气体。

专利地区：美国