包括基于聚二甲基戊二酰亚胺的底层的双层体系及其组成专利登记公告
专利名称：包括基于聚二甲基戊二酰亚胺的底层的双层体系及其组成
摘要：双层体系，其包括由聚二甲基戊二酰亚胺、对酸敏感的溶解抑制剂和光致产酸剂形成的底层。该双层体系能够以单曝光和显影过程进行曝光和显影。
专利类型：发明专利
专利号：CN201080050099.6
专利申请（专利权）人：国际商业机器公司
专利发明（设计）人：伊藤洋;张桃华;郑雅如;金昊彻
主权项：能光致成像的组合物，包含：聚(二甲基戊二酰亚胺)(PMGI)；对酸敏感的溶解抑制剂；光化学产酸剂(PAG)；和溶剂。
专利地区：美国
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