具有空间滤光片的全息掩模检查系统专利登记公告

专利名称：具有空间滤光片的全息掩模检查系统

摘要：公开了用于全息掩模检查的设备、方法和光刻系统。全息掩模检查系统(300，600，700)包括照射源(330)、空间滤光片(350)和图像传感器(380)。照射源配置成将辐射束(331)照射到掩模(310)的目标部分上。空间滤光片(350)布置在光学系统(390，610，710)的傅里叶变换光瞳平面中，其中空间滤光片接收来自所述掩模的目标部分的被反射的辐射束(311)的至少一部分。光学系统布置成组合(360，660，740)被反射的辐射束(311)的所述部分与参考辐射束(361，331)以产生组合的辐射束。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080050478.5

专利申请（专利权）人：ASML控股股份有限公司

专利发明（设计）人：R·萨拉尔德森;A·邓鲍夫;E·凯蒂;Y·沙玛莱;R·雅克布

主权项：一种全息掩模检查系统，包括：照射源，配置成将辐射束照射到掩模的目标部分上；空间滤光片，布置在光学系统的光瞳平面中，其中所述空间滤光片接收来自所述掩模的目标部分的被反射的辐射束的至少一部分，所述光学系统组合所述被反射的辐射束的所述部分与参考辐射束以产生组合的辐射束；和图像传感器，配置成检测对应于所述组合的辐射束的图像。

专利地区：荷兰