化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法专利登记公告

专利名称：化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法

摘要：本发明提供化学机械抛光用浆料和使用该浆料的基板的抛光方法，所述化学机械抛光用浆料包含水溶性包合化合物(a)、具有任选为盐形式的酸性基团作为侧链的高分子化合物(b)、抛光研磨粒料(c)和水(d)，其中，水溶性包合化合物(a)的含量是浆料总量的0.001质量%-3质量%，高分子化合物(b)具有1,000以上且小于1,000,000的重均分子量，并且高分子化合物(b)的含量是浆料总量的0.12质量%-3质量%。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080051174.0

专利申请（专利权）人：可乐丽股份有限公司

专利发明（设计）人：竹越穣;加藤充;冈本知大;加藤晋哉

主权项：?化学机械抛光用浆料，其包含：水溶性包合化合物(a)、具有任选为盐形式的酸性基团作为侧链的高分子化合物(b)、抛光研磨粒料(c)和水(d)，其中相对于浆料的总量，含有0.001质量%?3质量%的水溶性包合化合物(a)，高分子化合物(b)具有1,000以上且小于1,000,000的重均分子量，并且相对于浆料的总量，含有0.12质量%?3质量%。

专利地区：日本