阴图制版平版印版前体专利登记公告

专利名称：阴图制版平版印版前体

摘要：阴图制版平版印版前体具有最外可成像层，所述最外可成像层包含由以下结构(I)或结构(II)表示的氧清除剂和保存期稳定剂：其中Ar为亚苯基或亚萘基，R1和R2独立地为烷基、烯基、炔基、苯基、苯氧基、-R5OH、-CH2-C(＝O)-R3或-CH2-C(＝O)O-R4基团，R3为氢或烷基或苯基，R4为烷基或苯基，R5为亚烷基，R6和R7独立地为氢或烷基、-R5OH、-R5C(＝O)-R8或-R5C(＝O)OR9基团，R8为氢或烷基，R9为烷基，条件是氧清除剂具有仅仅一个羧基。HOOC-Ar-N(R1)(R2)?

专利类型：发明专利

专利号：CN201080051366.1

专利申请（专利权）人：伊斯曼柯达公司

专利发明（设计）人：L·梅梅蒂尔;J·黄

主权项：阴图制版平版印版前体，其包含底材，且在底材上具有阴图制版型可成像层作为最外层，所述可成像层包含：a)聚合物粘合剂，b)可自由基聚合的组分，c)一经暴露于成像辐射提供自由基的引发剂组合物，以及d)由以下结构(I)或结构(II)表示的氧清除剂和保存期稳定剂：HOOC?Ar?N(R1)(R2)(I)HOOC?R5?N(R6)(R7)(II)其中Ar为亚苯基或亚萘基，R1和R2独立地为烷基、烯基、炔基、苯基、苯氧基、?R5OH、?CH2?C(＝O)?R3或?CH2?C(＝O)O?R4基团，R3为氢或烷基或苯基，R

专利地区：美国