阴影掩膜对准和管理系统专利登记公告

专利名称：阴影掩膜对准和管理系统

摘要：一种用于基板的薄膜处理的磁性处理组件，一种用于组装和拆卸阴影掩膜以覆盖工件的顶部以暴露于处理条件的系统和方法。所述组件可包括：磁性处理载体以及阴影掩膜，所述阴影掩膜设置于所述磁性处理载体上方并磁性耦合至所述磁性处理载体，以覆盖当暴露于处理条件时将被设置在所述阴影掩膜和所述磁性处理载体之间的工件。一种系统包括：第一腔室，所述第一腔室具有保持所述阴影掩膜的第一支架；保持处理载体的第二支架；以及对准阴影掩膜和将被设置在载体和所述阴影掩膜之间的工件的对准系统。所述第一支架和所述第二支架可相对于彼此移动。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080051599.1

专利申请（专利权）人：应用材料公司

专利发明（设计）人：秉-圣·利奥·郭;斯蒂芬·班格特;拉尔夫·霍夫曼;迈克尔·柯尼希

主权项：一种用于基板的薄膜处理的组件，所述组件包括：磁性处理载体；以及阴影掩膜，设置于所述磁性处理载体上方并磁性耦合至所述磁性处理载体，以覆盖当暴露于处理条件时将被设置在所述阴影掩膜和所述磁性处理载体之间的工件的顶部。

专利地区：美国