多层反射镜专利登记公告

专利名称：多层反射镜

摘要：一种多层反射镜(100)配置用于反射极紫外(EUV)辐射、同时吸收第二辐射，所述第二辐射的波长基本上长于EUV辐射的波长。所述反射镜包括：叠置在基底(104)上的多个层对(110、112)。每个层对包括第一层(112)和第二层(110)，所述第一层包括第一材料，所述第二层包括第二材料。第一层(112)被改变，使得相比于具有相同厚度的相同金属的单层，减少了所述第一层对反射所述第二辐射的贡献。所述改变可以包括在金属层中或者金属层周围掺杂第三材料，以通过化学键合或者电子俘获来减小其导电性，和/或以绝缘层将金属层

专利类型：发明专利

专利号：CN201080051848.7

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：V·克里夫特苏恩;A·亚库宁;V·梅德韦杰夫

主权项：一种多层反射镜，配置用于反射极紫外(EUV)辐射、同时吸收第二类型的辐射，所述第二类型的辐射的波长基本上比EUV辐射的波长长，所述反射镜包括：叠置在基底上的多个层对，每个层对包括第一层和第二层，所述第一层包括第一材料，所述第二层包括第二材料，其中在所述多个层对的至少一个层对子集中的第一层被改变，使得相比于具有相同厚度的第一材料的单层，减少了所述第一层对反射所述第二辐射的贡献。

专利地区：荷兰