使用一组硅纳米颗粒流体以原位控制一组掺杂剂扩散分布的方法专利登记公告

专利名称：使用一组硅纳米颗粒流体以原位控制一组掺杂剂扩散分布的方法

摘要：本发明公开了形成多掺杂结的方法。所述方法包括提供第一基板和第二基板。所述方法还包括将第一油墨沉积在所述第一基板和所述第二基板中的每一个的第一表面上，所述第一油墨包含第一组纳米颗粒和第一组溶剂，所述第一组纳米颗粒包含第一浓度的第一掺杂剂。所述方法还包括将第二油墨沉积在所述第一基板和所述第二基板中的每一个的第二表面上，所述第二油墨包含第二组纳米颗粒和第二组溶剂，所述第二组纳米颗粒包含第二浓度的第二掺杂剂。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080052640.7

专利申请（专利权）人：英诺瓦莱特公司

专利发明（设计）人：E·罗戈吉纳;D·泊普拉维斯基;M·克尔曼;D·克赖;G·斯卡尔德拉;M·伯罗斯

主权项：形成多掺杂结的方法，包括：(A)提供第一基板和第二基板；(B)将第一油墨沉积在所述第一基板和所述第二基板中的每一个的第一表面上，所述第一油墨包含第一组纳米颗粒和第一组溶剂，所述第一组纳米颗粒包含第一浓度的第一掺杂剂；(C)将第二油墨沉积在所述第一基板和所述第二基板中的每一个的第二表面上，所述第二油墨包含第二组纳米颗粒和第二组溶剂，所述第二组纳米颗粒包含第二浓度的第二掺杂剂；(D)将所述第一基板和所述第二基板以背对背构型放置；(E)在第一驱入环境中将所述第一基板和所述第二基板加热至第一温度并持续第一时间段；

专利地区：美国