用于低粘度介质的压力传感器专利登记公告

专利名称：用于低粘度介质的压力传感器

摘要：本发明涉及一种用于在注射成型时测量低粘度介质中的压力的传感器，其包括：具有轴线A的壳体（2）、暴露于压力室（3）的平整的端面（4）、以及设置在该端面（4）上并与壳体（2）固定连接的膜（5）。在膜（5）的后面设置测量元件（13），其可以根据所述膜（5）的偏移推断出在所述压力室（3）中的压力。根据本发明，在所述壳体（2）的外面与壳体轴线A同轴地设置压力套筒（6），该压力套筒在端面处与所述传感器相密封地连接，并且设置成在连接部（12′）的后面与所述壳体（2）间隔开一间隙（17）。由此，所述间隙（17）在轴向上朝

专利类型：发明专利

专利号：CN201080053129.9

专利申请（专利权）人：基斯特勒控股公司

专利发明（设计）人：恩斯特·普勒彻

主权项：一种用于在注射成型时测量低粘度介质中的压力的传感器，包括：具有轴线A的壳体（2）、暴露于压力室（3）的平整的端面（4）、以及设置在所述端面（4）上与所述壳体（2）固定连接的膜（5），其中在所述膜（5）的后面设置测量元件（13），所述测量元件（13）能根据所述膜（5）的偏移推断出在所述压力室（3）中的压力，其特征在于，在所述壳体（2）的外面与壳体轴线A同轴地设置压力套筒（6），该压力套筒（6）在端侧与所述传感器相密封地连接，并被设置成在连接部（12′）的后面与所述壳体（2）间隔开一间隙（17），其中所述间隙

专利地区：瑞士