环状化合物、其生产方法、放射线敏感性组合物和抗蚀图案形成方法专利登记公告

专利名称：环状化合物、其生产方法、放射线敏感性组合物和抗蚀图案形成方法

摘要：公开的是：对于安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、能够形成具有良好形状的抗蚀图案和很少引起抗蚀图案塌陷的环状化合物；所述环状化合物的生产方法；包含所述环状化合物的放射线敏感性组合物；和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。具体公开的是：具有特定结构的环状化合物；环状化合物的生产方法；包含所述化合物的放射线敏感性组合物；和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080053806.7

专利申请（专利权）人：三菱瓦斯化学株式会社

专利发明（设计）人：高须贺大晃;越后雅敏;冈田悠

主权项：一种环状化合物，其由下式(1)表示：(式(1)中，R12独立地为选自由6至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基或者氢原子组成的组的官能团；(在这方面，它们中R12的至少之一为选自由6至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团)X独立地为选自由氢原子、1至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂

专利地区：日本