芳香族化合物、低聚核苷酸衍生物合成用修饰载体、低聚核苷酸衍生物及低聚核苷酸构建物专利登记公告

专利名称：芳香族化合物、低聚核苷酸衍生物合成用修饰载体、低聚核苷酸衍生物及低聚核苷酸构建物

摘要：本发明提供在3’末端化学修饰有苯骨架和吡啶骨架之中2个骨架的低聚核苷酸衍生物而且能够以少的工序数容易地合成的低聚核苷酸衍生物、以及作为用于制备其低聚核苷酸衍生物合成用修饰载体的前体的芳香族化合物。而且，本发明提供对细胞膜的透过性良好、具有优异的核酸酶耐受性的低聚核苷酸衍生物以及低聚核苷酸构建物，所述低聚核苷酸衍生物在3’末端悬空端化学修饰有苯骨架和吡啶骨架之中的2个骨架。所述低聚核苷酸衍生物合成用修饰载体的特征在于，在载体上介由连接体化学修饰有下述结构式（a）表示的单元（其中，式中的R1～R6各自独立地表

专利类型：发明专利

专利号：CN201080055332.X

专利申请（专利权）人：国立大学法人岐阜大学

专利发明（设计）人：北出幸夫;喜多村德昭

主权项：一种芳香族化合物，其特征在于，以下述结构式（A）表示，其中，式中的R1～R6各自独立地表示氢或者氢以外的取代基；式中Z1和Z2各自独立地表示CH或者氮，X表示氧或者硫；Pr1和Pr2各自独立地表示羟基的保护基。FDA00001732272600011.jpg

专利地区：日本