形成装饰性涂层的方法、装饰性涂层及其应用专利登记公告

专利名称：形成装饰性涂层的方法、装饰性涂层及其应用

摘要：装饰性涂层和在基底（2）上形成装饰性涂层的方法。该装饰性涂层包含削弱可见光透射通过涂层的吸收膜（1）。该方法包括如下步骤：将基底（2）引入反应空间，和在基底（2）上沉积吸收膜（1）。在基底上沉积吸收膜（1）包括如下步骤：在沉积表面上形成过渡金属氧化物的预沉积物，随后净化反应空间，和用包含第一金属的有机金属化学剂处理沉积表面，随后净化反应空间。形成预沉积物和处理沉积表面的步骤交替重复以增加吸收膜（1）的吸收。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080055424.8

专利申请（专利权）人：贝尼科公司

专利发明（设计）人：J·毛拉;T·阿拉萨瑞拉

主权项：在基底（2）上形成装饰性涂层的方法，所述装饰性涂层包含削弱可见光透射通过所述涂层的吸收膜（1），所述方法包括如下步骤：将所述基底（2）引入反应空间，和在所述基底（2）上沉积所述吸收膜（1），其特征在于在所述基底（2）上沉积所述吸收膜（1）包括如下步骤?在沉积表面上形成过渡金属氧化物的预沉积物，随后净化所述反应空间，和?用包含第一金属的有机金属化学剂处理所述沉积表面，以使至少部分所述有机金属化学剂与至少部分所述预沉积物反应，随后净化所述反应空间，形成包含氧、第一金属和过渡金属的氧化物；形成所述预沉积物和处理

专利地区：芬兰