曝光方法及曝光装置专利登记公告

专利名称：曝光方法及曝光装置

摘要：本发明涉及一种曝光方法，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的第一及第二曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，该曝光方法具有：将与各曝光图案对应的第一及第二掩模图案组沿着被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于光掩模的第一掩模图案组的对被曝光体的第一曝光区域的曝光结束时，使光掩模移动规定距离而从第一掩模图案组切换成第二掩模图案组的阶段；通过第二掩模图案组执行对被曝光体的第二曝光区域的曝光的阶段，其中，控制光掩模的移动速度，以使第一及第二掩模图案组的

专利类型：发明专利

专利号：CN201080056557.7

专利申请（专利权）人：株式会社 V 技术

专利发明（设计）人：梶山康一;新井敏成

主权项：一种曝光方法，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的多个曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，所述曝光方法的特征在于，具有：将与所述各曝光图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于该光掩模的一掩模图案组的对所述被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，使所述光掩模移动规定距离而从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组的阶段；通过所述另一掩模图案组执行对所述被曝光体的下一曝光区域的曝光的阶段，为了从所述一掩模图案组切换成另一掩模图

专利地区：日本