光掩模坯料及光掩模的制造方法专利登记公告

专利名称：光掩模坯料及光掩模的制造方法

摘要：在含有铬、在氟类干式蚀刻中不受到实质性的蚀刻并且在含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的遮光膜（13）之上，层叠不含有铬、在氟类干式蚀刻且含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的膜（14）。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080056696.X

专利申请（专利权）人：凸版印刷株式会社;信越化学工业株式会社

专利发明（设计）人：小岛洋介;吉川博树;稻月判臣;小板桥龙二

主权项：一种光掩模坯料，其特征在于，在含有铬、在氟类干式蚀刻中不受到实质性的蚀刻并且在含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的第1膜之上，层叠不含有铬、在氟类干式蚀刻及含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的第2膜。

专利地区：日本

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