乙炔基衍生物专利登记公告

专利名称：乙炔基衍生物

摘要：本发明涉及式(I)的乙炔基衍生物，其中X是N或C-R1；Y是N或C-R2；Z是CH或N；R4是含有0、1或2个氮原子的6元芳族取代基，所述芳族取代基任选地被选自卤素、低级烷基、低级烷氧基或NRR’的1至3个基团取代；R1是氢，低级烷基，低级烷氧基，羟基，低级羟烷基，低级环烷基或是任选地被羟基或烷氧基取代的杂环烷基；R2是氢，CN，低级烷基或杂环烷基；R和R’彼此独立地是氢或低级烷基；或它们的药用盐或酸加成盐，外消旋混合物，或其对应的对映体和/或光学异构体和/或立体异构体。现已经惊奇地发现通式I化合物是代谢

专利类型：发明专利

专利号：CN201080057081.9

专利申请（专利权）人：霍夫曼-拉罗奇有限公司

专利发明（设计）人：卢克·格林;沃尔夫冈·古帕;乔治·耶施克;西内塞·若利多;洛塔尔·林德曼;海因茨·施塔德勒;埃里克·维埃拉

主权项：式I的乙炔基衍生物其中X是N或C?R1；Y是N或C?R2；Z是CH或N；R4是含有0、1或2个氮原子的6元芳族取代基，所述芳族取代基任选地被选自卤素、低级烷基、低级烷氧基或NRR’的1至3个基团取代；R1是氢，低级烷基，低级烷氧基，羟基，低级羟烷基，低级环烷基或是任选地被羟基或烷氧基取代的杂环烷基；R2是氢，CN，低级烷基或杂环烷基；R和R’彼此独立地是氢或低级烷基；或它们的药用盐或酸加成盐，外消旋混合物，或其对应的对映体和/或光学异构体和/或立体异构体。FDA00001770427300011.jpg

专利地区：瑞士