吡咯烷衍生物专利登记公告

专利名称：吡咯烷衍生物

摘要：本发明涉及式(I)化合物或其药物活性盐。已经发现所述化合物是高潜力的NK-3受体拮抗剂，用于治疗抑郁症、疼痛、精神病、帕金森病、精神分裂症、焦虑和注意缺陷多动障碍(ADHD)。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080057154.4

专利申请（专利权）人：霍夫曼-拉罗奇有限公司

专利发明（设计）人：亨纳·努斯特;安德烈亚斯·科布利特;马蒂亚斯·内特科文;哈萨内·拉特尼;克劳斯·里默尔;沃尔特·维凡

主权项：一种式I化合物：其中R1是氢，卤素，氰基，低级烷基或被卤素取代的低级烷基；n是1，2或3，如果n是2或3，则R1可以不同；R2是氢或甲基；R3是(CH2)r?C(O)NH2或(CH2)r?CN，其中r是1或2，或是非芳香杂环基其中X是N或CH；Y是?C(R)(R7)?；?N(R7’)?，?S(O)2或O；R6是氢，二?低级烷基或＝O；o和m可以彼此独立地是0，1或2；p??是0，1或2；R是氢，卤素，或低级烷基；R7是氢，卤素，羟基，被羟基取代的低级烷基，氰基，或低级烷氧基；R7’是氢，?C(O)?低级烷

专利地区：瑞士